最適合光學元件,半導體相關產品表面清潔製程 整合高效率 洗淨設備,如 CO₂ Snow Cleaner 與 Micro Plasma,可去除微粒與有機污染 CO2 Snow Cleaning有機化合物洗浄 例:Wafer Glass Recipe Nozzle Type : pen type 0.3mm Nozzle Angle : 45 ° Nozzle Distance : 10cm Moving Speed : 100mm/s Cycle Time : 15S/PCS